Notebookcheck Logo

Az SK Hynix összeszereli az első High-NA EUV litográfiai eszközt a tömeggyártáshoz az M16 gyárban

A képen: Az SK Hynix QLC NAND flashmemóriája (Kép forrása: SK Hynix)
A képen: Az SK Hynix QLC NAND flashmemóriája (Kép forrása: SK Hynix)
Az SK Hynix az ASML High-NA EUV-rendszerét telepítette dél-koreai M16 gyárában, amely az első ilyen, tömeggyártásra összeszerelt eszköz. Az áttörés kisebb funkciókat és nagyobb sűrűségű DRAM-ot tesz lehetővé, és erősíti a vállalat előnyét a Samsunggal és a Micronnal szemben a következő generációs memóriák terén.
Storage GPU Business Desktop AI

Az SK Hynix bejelentette hogy a vállalat a dél-koreai Icheonban található M16 gyárában összeszerelte az iparág első High-NA EUV litográfiai rendszerét a tömegtermeléshez. Az SK Hynix K+F és gyártás vezetői, valamint az ASML SK Hynix ügyfélvezetői egy helyszíni rendezvényen ünnepelték a mérföldkövet. A rendszer célja, hogy felgyorsítsa a következő generációs DRAM-ok fejlesztését és szállítását, ugyanakkor szoros partneri együttműködéssel erősítse a hazai AI-memória vezető szerepét és fokozza az ellátási lánc stabilitását. Ez a mérföldkő az SK Hynix számára a még mindig a Low-NA EUV-re támaszkodó más versenytársak előtt jelent ugrást.

Az ASML TWINSCAN EXE:5200B rendszere körülbelül 40 százalékkal nagyobb NA-t (numerikus apertúrát) biztosít, mint Low-NA társa, ami 1,7-szer kisebb funkciókat tesz lehetővé, körülbelül 2,9-szer nagyobb tranzisztorsűrűséggel egyetlen expozíció során. A gép jelentős, 8 nm-es felbontást képes elérni, ami jelentős előrelépés a Low-NA rendszerek által jelenleg elért 13 nm-es felbontáshoz képest. Az ASML úgy fogalmazza meg a mérföldkövet, hogy "új fejezetet nyit".

Az SK Hynix kezdetben új DRAM-szerkezetek, köztük kondenzátorárkok, bitvonalak és szóvonalak gyors prototípusának elkészítését tervezi a csomópontok fejlesztésének felgyorsítása érdekében. A vállalat a meglévő EUV-folyamatok egyszerűsítését is tervezi a költség-versenyképesség javítása érdekében, ahogy a fejlesztés érik.

A jövőbeni DRAM-ok várhatóan átállnak a High-NA EUV-technológiára (a 2030-as évek körül); ezért ez az eszköz korán levezeti ezt az utat. Az SK Hynix 2021 óta bővítette EUV-alapját a DRAM területén, és ez a mérföldkő a következő lépést jelenti a következő generációs DRAM-gyártás számára.

Azzal, hogy az SK Hynix az elsők között szerelhet össze High-NA EUV-rendszereket egy tömeggyártó telephelyen, megelőzi a Micront és a Samsungot, ami versenyelőnyhöz juttatja a piacon. Az ASML korábban már gyártás előtti High-NA rendszereket (az NXE:5000 sorozatot) épített az Intel D1X gyárában, de az SK Hynix telepítése az új EXE:5200B rendszer első összeszerelése egy sorozatgyártásra berendezett ügyfélgyárban.

Forrás(ok)

SK Hynix (angolul)

Please share our article, every link counts!
Mail Logo
> Magyarország - Kezdőlap > Newsarchive 2025 09 > Az SK Hynix összeszereli az első High-NA EUV litográfiai eszközt a tömeggyártáshoz az M16 gyárban
Nathan Ali, 2025-09- 4 (Update: 2025-09- 4)