A kínai Prinano cég leszállítja az első hazai nanoimprint litográfiai eszközt

A Prinano kínai berendezésgyártó cég szállított első saját fejlesztésű PL-SR lépés- és ismétléses nanoimprint litográfiai rendszerét egy speciális eljárásokra összpontosító hazai ügyfélnek. A rendszer az ügyféloldali tesztelés után tényleges chipgyártásra készül, és a Prinano a Canon után csak a második vállalat, amely nanoimprint eszközt helyezett el egy ügyfélnél.

A rendelkezésre bocsátott anyagok szerint a PL-SR tíz nanométer alatti vonalszélességet támogat. A Canon FPA-1200NZ2C körülbelül tizennégy nanométeres vonalszélességet ér el. Ezt úgy reklámozzák, hogy öt nanométeres osztályú chipeket tesz lehetővé, de a dokumentumok figyelmeztetnek arra, hogy a Prinano eredménye nem jelenti azt, hogy a PL-SR képes lenne fejlett logikát gyártani öt nanométeres node-ban.

A nanoimprint vonzereje itt egyszerű: elkerülhetők a kereskedelmi EUV litográfiában használt extrém ultraibolya fényforrások, ami csökkenti az energiafelhasználást és a berendezések költségeit. A kompromisszum az áteresztőképesség és a rugalmasság. A nanoimprint továbbra is lassabb, mint a hagyományos optikai litográfia, és nem alkalmas bonyolult, fejlett mintákat tartalmazó, összetett logikai folyamatokhoz.

A Prinano gépe úgy alakítja ki a mintázatot az ostyákon, hogy egy merev, nanoméretű áramkörökkel gravírozott kvarcformát nyom egy vékony, tintasugaras eljárással felvitt rezisztrétegbe. A rendszer tintasugaras modulja dinamikusan adagolja a cseppek mennyiségét, hogy a maradék réteg vékony maradjon (tíz nanométer alatt, kevesebb mint két nanométeres eltéréssel), majd a mintát a későbbi maratáshoz kikeményíti. A szerszám 300 mm-es ostyákat kezel, a formát és az ostyát finom tűréshatárok szerint igazítja, és az egyes mezőket egymás után, a teljes ostyát lefedő varrással nyomja be. Támogatja továbbá a 20 mm x 20 mm-től a 300 mm x 300 mm-ig terjedő egységes sablonkötéseket.

Egy szabadalmaztatott sablon-profil-szabályozó mechanizmus célja, hogy kompenzálja a szerszám és a wafer görbületének eltéréseit, lehetővé téve a hét az egyhez feletti oldalarányú jellemzők átvitelét, miközben korlátozza a torzulást, ami a hozam és az eszköz variabilitása szempontjából fontos gyakorlati szempont. A nyomtatás után a reziszt maszkként szolgál a végleges struktúrák maratásához.

A kezdeti validálás a szabályos, ismétlődő mintákat tartalmazó alkalmazásokat célozza: NAND Flash, szilíciumalapú mikrokijelzők, szilícium-fotonika és fejlett csomagolás. Ezek a területek profitálnak a technológia finom osztásából és a mezőnkénti varrásból, anélkül, hogy a CPU-kra és GPU-kra jellemző mintázati sokféleséget igényelnék. Az anyag a kínai memóriagyártók számára a hazai nanoimprint egy olyan lehetőséget is kínál, amellyel csökkenthetik a külföldi eszközöktől való függőségüket, és hatékonyabban vehetik fel a versenyt a hagyományos beszállítókkal szemben.